EV Groupのマスクレス露光装置LITHOSCALEが2021年BEST OF WEST賞を受賞

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Semiconductor Digest編集長Pete Singer氏からEV Group 北米支社長兼ジェネラルマネージャー Dave Kirsch(左)へ2021 BEST OF WEST賞が授与。右はEV Group 北米支社 テクノロジー部ディレクター Garret Oakes

量産工程にデジタルリソグラフィのメリットをもたらすEV Groupの LITHOSCALE® マスクレス露光装置

サンフランシスコ、カリフォルニア – 2021128 – 12月7日から9日までサンフランシスコのMoscone Centerで開催されるSEMICON West 2021 Hybridで、EV Group(EVG)のマスクレス露光装置LITHOSCALE®が2021 Best of West賞を受賞したことを、SEMIとSemiconductor Digestにより発表されました。EVGは、MEMS、ナノテクノロジー、半導体市場向けのウェーハ接合およびリソグラフィ装置のリーディングサプライヤーです。

SEMIとSemiconductor Digestが毎年発表するBest of West賞は、エレクトロニクス製造のサプライチェーンや特定の製造能力を著しく向上させる革新的な新製品やサービスを表彰するものです。

LITHOSCALEは、半導体先端パッケージング、MEMS、バイオメディカル、PCB製造など、高度な柔軟性や製品バリエーションを必要とする市場やアプリケーションのバックエンドリソグラフィのニーズに対応するよう設計されています。EVGの革新的なMLE™  (マスクレス露光)技術を搭載した最初の製品プラットフォームであるLITHOSCALEは、露光フィールドの制限のない高解像度(2ミクロンL/S以下)、リアルタイムデータ転送と即時露光を可能にする強力なデジタル処理や、大量生産に対応した高い拡張性を兼ね備えたデザインとなっています。

歪みのない高輝度光学系とサブナノメータレンジのステージ動作精度により、基板全体へのシームレスな射影を実現します。また、LITHOSCALEは、基板の材質や表面のばらつきに対応するため、ダイナミックアライメントモードや自動焦点によるダイレベルの補正機能を採用しています。これにより、既存のマスクレス露光機に比べ、最大で5倍のスループットを実現した世界初の量産用マスクレス露光リソグラフィシステムとなりました。

Semiconductor Digest編集長のPete Singer氏は以下のように述べています。「半導体メーカーは、チップの小型化・高速化のために、EV Groupのような装置メーカーの創意工夫した技術力に長年依存してきました」「LITHOSCALE マスクレス露光装置は、今年のSEMICON Westで展示されている各社のノウハウの優れた一例だと言えます」

このようにして、EV Groupは、SEMICON West 2021 Hybridにおいて、Best of West賞を受賞するに至りました。
 

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