リソグラフィ装置

EVGのリソグラフィ技術を代表する装置には、高スループットを誇るコンタクト/近接露光マスクアライメント装置や近年発表された革新的で幅広い用途に対応するマスクレス露光装置などがあり、これらの機能は、同様に高水準のプロセス処理能力を備えたレジスト塗布/現像装置と、実地での我々のプロセス開発スキルに支えられています。

EVGのリソグラフィ装置のプラットフォームのほとんどが300mmまでの基板に対応しており、必要な工程を1台で行えるリソグラフィ・トラックシステムHERCULES®へのプロセスモジュール搭載が可能です。そしてこれには、上下面のアライメント精度を検証する測定装置も含まれます。

EVGは常に将来の市場動向を見据え、特に先端パッケージング、MEMS、化合物半導体、フォトニクス、およびバイオメディカルなど、EVGの卓越したプロセスと材料の専門知識 － 様々なレジストを用いた多岐にわたる研究の末、得られた知識 － が最大限に活かせる市場に向けて、それぞれのアプリケーション特有のソリューションを提供しています。 私たちは、EVGのリソグラフィソリューションを成功させるために何より重要なことは、お客様のニーズを理解し、最適なサービスを提供することであると考え、ワールドワイドでのサポートに取り組んでいます。